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第140章 小芯粒＋超导基座（第2页）

“好，有了这么多的纯材料，看来在材料这块，已经打破外国的卡脖子了。”

叶云明点头道：“芯片工艺的话，目前能造出7纳米的小芯粒就够了，至于5纳米、3纳米、2纳米还有更低制程的工艺，全都是虚假制程，相互间的性能差距，不会过15%，热方面却没多大变化，甚至更容易烫了，可见这纯粹是个数字游戏，只要我们先把7纳米搞定，再借助euV光刻机搞定5纳米，西方的领先优势就彻底丧失了，他们实际就领先了两三代而已。”

“你说的没错叶总，只要搞定了7纳米，我们跟西方的技术代差，就缩小到一代了。”

张昊京点头。

“对了何总，请问eda工具这块，你们还要多少时间搞定？”

叶云明看向‘芯片女神’何庭玉的屏幕，询问道。

“没有太大的问题了，不管什么类型的芯粒，我们都能拿出成熟稳定的架构，但我们还在做深度优化，想拿出性能功耗表现最完美的版本，为提高效率，我们使用了aI工具进行优化。但如果想马上就用的话，我们还是能拿出比较好的公版架构，保证不会差于国外主流架构。”

何庭玉汇报道。

“那再给你们半个月，先拿出几款‘准完美’的且足够稳定的芯粒架构出来，确保没有致命缺陷，你们能不能做到？”

叶云明问。

“可以，没问题。”

何庭玉自信的道：“半个月时间，对我们够用了。”

随后。

负责芯片制造工艺摸索的‘芯片吕布’梁元松表示：他带人把部分的芯粒制造环节，放到太空环境进行后，由于省去了很多工艺步骤，良率也能提高。且他已经带人造出了7纳米的芯粒，良率近3o%，但想要提高到9o%以上，必须在光刻机方面补足短板，把足够好用的国产duV光刻机造出来。

负责操作系统与软件适配的胡胜武，则表示他带着6ooo多名的软件工程师日夜鏖战，消灭了无数Bug，采用了一切手段提升流畅度，应用软件也开了数百款，预计再过一个月时间，‘鸿梦·星河’系统，就能重磅问世，保证不会拖大家的后腿。

听完这些汇报。

叶云明点点头，道：“也就是说，唯一还没有攻克的最难环节，是技术还不太成熟的国产光刻机？”

“是这样的。”

东海微电子公司的老板贺光，不得不声解释：“叶总，我们已经生产出合格的duV光刻机了，实验室内的表现非常完美，但实际生产过程中，又遇到了这样那样的问题。但只要给我们一点时间，继续调试跟改进，绝不会掉链子的，我公司上千名的研人员，都在没日没夜的加班，没人比他们更想洗刷光刻机领域的耻辱。”

“我没有太多的时间给你。”

叶云明摇摇头，对他道：“这样，我明天就去你公司，亲自参与问题的解决，争取在半个月内，拿出不会出任何问题的duV光刻机。”